沿革:1961〜2000

年代技術変遷
1961年(昭和36年)自動制御盤 (リレーシーケンス)の 製造開始
1961年(昭和36年)泉尾工場を大阪府大阪市大正区泉尾1丁目30番5号に新設
1968年(昭和43年)
4月
塩水電気分解(水銀法)における陽極板保護装置APD型を三井物産と共同開発。国内、欧米ほか5カ国の特許取得
1970年(昭和45)
2月
半導体(IC、トランジスタ、ダイオード)をプリント板化し、本格的に無接点による自動制御盤製作に着手
~表示部に国内初の発光ダイオードを採用
1972年(昭和47年)
4月
公害防止関連企業への水処理、排煙脱硫などの公害防止事業に参画
1974年(昭和49年)
7月
半導体応用による微粒子検出器(JIS-C2111に基づく)の開発~表示部にニクシ管表示採用
1976年(昭和51年)
2月
シーケンスコントローラ応用によるシステム制御に着手
1976年(昭和51年)
5月
マイコン、シーケンスコントローラ応用によるシステム制御に着手
1976年(昭和51年)
11月
コンピュータ制御による立体自動倉庫制御システムに着手
~カードリーダーによる入出庫指令、演算回路構成を採用
協力会社・日誠電機製作所を設立
1978年(昭和53年)
9月
東京出張所を千代田区神田須田町に移転
1982年(昭和57年)コンピュータによる 生産管理システムに着手
1991年(平成3年)
11月
資本金を4,500万円に増資
1992年(平成4年)
5月
創業60周年を迎える
本社社屋(5階建)が完成
1994年(平成6年)
5月
NQC活動導入宣言大会を開催
1995年(平成7年)
5月
MELCAD-MD(プラス)システム導入により複数台構成による設計技術部門のネットワーク化を図る